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東莞市鼎偉新材料有限公司專業(yè)生產(chǎn):鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等;公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當(dāng)中,以較高的性價(jià)比,成功發(fā)替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品,頗受用戶好評(píng)。

佛山貴金屬靶材廠

時(shí)間:2024-08-01點(diǎn)擊次數(shù):86

作為一家專業(yè)從事高純金屬材料、蒸發(fā)鍍膜材料和濺射靶材生產(chǎn)的科技型民營股份制工貿(mào)有限公司,佛山貴金屬靶材廠憑借著雄厚的技術(shù)實(shí)力和專業(yè)應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室,致力于為國內(nèi)外電子、太陽能企業(yè)提供高質(zhì)量的貴金屬靶材產(chǎn)品。在行業(yè)內(nèi),我們以*特的研發(fā)能力和較高的性價(jià)比成功替代了多款進(jìn)口產(chǎn)品,贏得了客戶的高度認(rèn)可。

貴金屬靶材,作為以貴金屬及其合金為原料制成的濺射靶材,其在電子器件、醫(yī)療設(shè)備、航空航天和新能源等領(lǐng)域具有重要應(yīng)用**。在集成電路和大規(guī)模集成電路的生產(chǎn)中,常見的貴金屬靶材如金、銀、鉑、銠等被廣泛采用,其高純度的特性使得在半導(dǎo)體行業(yè)與大規(guī)模的集成電路制造中扮演著關(guān)鍵角色。

除了單質(zhì)的貴金屬靶材,合金靶材如CoCrPt、CoPt和CoPd等也被廣泛應(yīng)用于磁記錄領(lǐng)域。高純度是貴金屬靶材的重要特征,通常在半導(dǎo)體行業(yè)與大規(guī)模集成電路中,其純度要求達(dá)到99.99%以上,因此成為電子信息產(chǎn)業(yè)不可或缺的重要材料。

一個(gè)值得關(guān)注的地方是,貴金屬靶材可以進(jìn)行回收再利用。在生產(chǎn)加工過程中,廢棄的靶材或殘余材料都可以經(jīng)過回收再加工,這不僅減少了資源的浪費(fèi),同時(shí)也符合環(huán)保和可持續(xù)發(fā)展的理念。

關(guān)于貴金屬靶材的制備方法,主要有鑄造法和粉末冶金法兩種。鑄造法通過熔煉、澆注、模具、鑄錠、機(jī)械加工等步驟,制備出貴金屬靶材;而粉末冶金法則包括熔融、成形、燒結(jié)等步驟,適用于制備合金靶材。

在鍍膜工藝方面,物理氣相沉積(PVD)技術(shù)是一種常用的技術(shù),可以在真空環(huán)境下,采用物理手段將材料源表面氣化成氣態(tài)原子或離子,并在基板表面沉積出具有特殊功能的薄膜,增強(qiáng)材料的表面性能和功能。

作為貴金屬靶材制造行業(yè)的一員,佛山貴金屬靶材廠致力于不斷創(chuàng)新、提升產(chǎn)品質(zhì)量,在不斷變革的市場競爭中立足穩(wěn)固,為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品務(wù)。隨著科技的不斷進(jìn)步與應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,我們將持續(xù)關(guān)注行業(yè)動(dòng)態(tài),創(chuàng)新產(chǎn)品研發(fā),滿足客戶多樣化的需求,為推動(dòng)貴金屬靶材行業(yè)的發(fā)展做出更大的貢獻(xiàn)。

在未來的發(fā)展中,佛山貴金屬靶材廠將繼續(xù)秉承“質(zhì)量、服務(wù)至上”的理念,堅(jiān)持以技術(shù)創(chuàng)新為動(dòng)力,不斷提升生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品品質(zhì),為客戶提供更加優(yōu)質(zhì)的貴金屬靶材產(chǎn)品,助力客戶更大的成功。

我們期待與更多合作伙伴攜手共進(jìn),共創(chuàng)美好未來!


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